학회리뷰
- 장재원
- 김상완
- 2025.08.19
- 136
-참석일: 25.08.19~25.08.22
-학회 후기
iMiD 2025 학회에 참석하여 포스터 발표를 진행하였습니다. iMID는 디스플레이 소자, 공정 및 신뢰성 전반을 아우르는 학회로, 특히 oxide TFT, 차세대 디스플레이 구동 기술과 관련된 연구들이
인상 깊었습니다. 이번 학회에서는 bias stress,
thermal/illumination stress 등 TFT 신뢰성 열화 메커니즘을 다룬
발표들이 다수 소개되었으며, 소자 물리뿐 아니라 실제 패널 적용과 공정 관점에서의 해석이 강조된 점이
의미 있었습니다. 다양한 산학 연구자들과의 교류를 통해 연구 결과를 보다 실용적인 시각에서 바라볼 수
있는 계기가 되었습니다.
-발표 후기
본 학회에서 top-gate oxide TFT의 positive Bias Stress (PBS)에 따른 Vth 열화 특성을 주제로 포스터 발표를 진행하였습니다. 본 연구는 PBS 조건에서 발생하는 Vth shift를 분석하고, gate 전계에 따른 subgap density에 따른 열화 메커니즘을 중심으로 분석한 내용이었습니다. PBS 열화를 interface trapping과 subgap density 관점에서 해석의 타당성, 실제 디스플레이 구동 조건과의 연관성, 그리고 다른 gate 구조와의 비교에 대한 질문과 토론이 이루어졌습니다. 이러한 논의를 통해 연구 내용을 보다 명확히 정리할 수 있었고, 향후 추가 실험 및 신뢰성 평가로 확장할 방향성에 대해서도 구체적인 아이디어를 얻을 수 있었습니다.
